脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80
價 格：詢價
產 地：美國更新時間：2020-10-29 14:11
品 牌：Neocera型 號：Pioneer240,180, 120,80
狀 態(tài)：正常點擊量：1367
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脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 主要特點：
PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸發(fā)，生產出與靶子同樣化學組成的膜。
PLD應用廣泛：很多材料在多樣的氣體環(huán)境和很寬的氣體壓力范圍內都可以鍍膜。
PLD節(jié)省成本：***束激光能夠供多個真空系統(tǒng)使用。
PLD高效率：在10至15分鐘，可生長高質量的樣品。
PLD可升***：當需要大批量生產復合氧化物膜時，Neocera公司將證明PLD作為生產工具的價值。
PLD 是***種復雜材料沉積的有效方法
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是***種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成***系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。另外，PLD 是***種“ 數(shù)字” 技術，在納米尺度上進行工藝控制（?/pulse）。
Neocera 在PLD 設備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗
Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領域***為廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
Neocera 不僅為客戶提供***基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案
產品參數(shù)
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 技術參數(shù)：
型號 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
最大wafer直徑 | 8” | 6” | 2” | 1” |
最大靶材數(shù)量 | 6個1” 或4個2” | 6個1” 或4個2” | 6個1” 或3個2” | 4個1” |
壓力(Torr) | <10-8 | <10-8 | <10-8 | <10-8 |
真空室直徑 | 24” | 18” | 12” | 8” |
基片加熱器 | 8”，旋轉 | 6”，旋轉 | 3”， 旋轉 | 2”，旋轉 |
最高樣品溫度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速
（liters/sec） | 800 | 260 | 260 | 70 |
計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉 | 包括 | 包括 | - | - |
基片預真空室 | 包括 | 選件 | 選件 | - |
掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - | - |
靶預真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 | - |
CCS連續(xù)組成擴展 | 選件 | 選件 | - | - |
高壓RHEED | 選件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 選件 | - | - |
產品介紹
脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越經(jīng)驗的創(chuàng)新設計
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得***佳薄膜質量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應用于Pioneer 系統(tǒng)的設計之中。
很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的***大均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得***佳薄膜質量的關鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達到***優(yōu)的沉積條件。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
