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  nanoArch S140 Pro微納3D打印機(jī) 

nanoArch S140 Pro微納3D打印機(jī)由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前***具有前景的微尺度加工技術(shù)之***。

基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學(xué)精度：10μm

打印層厚：10-40μm

打印尺寸：

①模式***：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)（單投影模式）

②模式二：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（拼接模式）

③模式三：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（重復(fù)陣列模式）

文件格式：STL

設(shè)備功率：3000W

系統(tǒng)外形尺寸：1000㎜(L)×700㎜(W)×1600㎜(H)

主機(jī)外形尺寸：600㎜(L)×580㎜(W)×750㎜(H)

重量：300kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

應(yīng)用領(lǐng)域：

可廣泛應(yīng)用于醫(yī)療器械、內(nèi)窺鏡、連接器、消費(fèi)電子、包裝和通訊等行業(yè)