飛納臺(tái)式掃描電鏡 專業(yè)版
―― 智能、高效、多功能
放大倍數(shù)：20×-150,000× 分辨率：優(yōu)于8nm 電子槍：1500小時(shí)CeB6燈絲 抽真空時(shí)間：10秒 樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái) 樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航 樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測(cè)絕緣體 拓展功能：顆粒分析系統(tǒng)、3D粗糙度重建、纖維統(tǒng)計(jì)測(cè)量、孔徑測(cè)量系統(tǒng)、高倍拼圖等 環(huán)境掃描選件（ESEM）：溫控樣品臺(tái)，可直接觀測(cè)液體 |
Phenom Pro （飛納臺(tái)式掃描電鏡 專業(yè)版）是Phenom（飛納）產(chǎn)品中*的型號(hào)，在繼承了Phenom（飛納）代（G1）產(chǎn)品操作方便、30秒快速成優(yōu)質(zhì)圖像、售后無憂等優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，電鏡分辨率和圖像質(zhì)量顯著提高。 采用了壽命高達(dá)1500小時(shí)的新***代CeB6燈絲和分辨率更高，功能更全的光學(xué)顯微鏡，提高后的光學(xué)顯微鏡有聚焦功能，放大倍數(shù)在20-150000倍之間，具備明場(chǎng)和暗場(chǎng)兩種模式。 |
表面形貌和成分信息同時(shí)展現(xiàn)
背散射電子的產(chǎn)率、出射角度與樣品成份及表面形貌相關(guān)。Phenom（飛納）采用4分割半導(dǎo)體背散射電子探測(cè)器，為您提供兩種成像模式，模式之間可迅速切換：
成份模式：同時(shí)給出樣品表面形貌與成份信息，不同元素可由其灰度對(duì)比度的不同加以分辨；
形貌模式：去除成份信息，樣品表面凹凸起伏等微觀結(jié)構(gòu)更加明晰，適用于表面粗糙度和缺陷分析；
Phenom（飛納）樣品杯、低真空設(shè)計(jì)、的真空封鎖技術(shù)，裝入樣品后30秒內(nèi)即可得到高質(zhì)量圖像，耗時(shí)僅為傳統(tǒng)電鏡的1/10左右。
直接觀看絕緣體，無需噴金
Phenom（飛納）采用低真空技術(shù)，出射電子與空氣分子碰撞產(chǎn)生正離子，正離子與樣品表面累積的電子中和，有效抑制荷電效應(yīng)的產(chǎn)生，直接觀測(cè)各種不導(dǎo)電樣品。
利用降低荷電效應(yīng)樣品杯，更可將開始荷電的放大倍數(shù)提高8倍左右，而且不會(huì)影響燈絲壽命，下圖頭發(fā)示例：
操作簡(jiǎn)便，全程導(dǎo)航
自動(dòng)/手動(dòng)聚焦
自動(dòng)/手動(dòng)亮度
自動(dòng)/手動(dòng)對(duì)比度
自動(dòng)燈絲居中調(diào)節(jié)
自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)
光學(xué)/電子樣品導(dǎo)航
Phenom（飛納）操作界面。通過點(diǎn)擊右側(cè)圖標(biāo)可以輕松完成圖像縮放、聚焦、亮度對(duì)比度調(diào)節(jié)、旋轉(zhuǎn)等操作。界面右側(cè)顯示光學(xué)導(dǎo)航和低倍SEM導(dǎo)航窗口，方便用戶在不同樣品、不同區(qū)域間進(jìn)行切換。
環(huán)境適應(yīng)性高，完全防震
Phenom（飛納）可以放置在幾乎所有的室內(nèi)環(huán)境當(dāng)中，無需超凈間。采用燈絲、探測(cè)器、樣品臺(tái)相對(duì)***體化的設(shè)計(jì)，震動(dòng)不會(huì)引起三者間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使Phenom（飛納）成像不受震動(dòng)影響，可放置在較高樓層。
互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程檢測(cè)
Phenom（飛納）擁有遠(yuǎn)程檢測(cè)功能，通過網(wǎng)絡(luò)，專業(yè)工程師可隨時(shí)為您遠(yuǎn)程檢測(cè)系統(tǒng)、答疑解難，為您提供全方位的保護(hù)，讓您的Phenom（飛納）隨時(shí)處于*佳工作狀態(tài)。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
