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英國 Durham 無掩膜光刻機(jī)

價(jià)  格:詢價(jià)

產(chǎn)  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:Microwriter ML3

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:2478

400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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配送方式: 上海自提或三方快遞

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Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機(jī)
詳細(xì)介紹
小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)
 

    小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英***Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

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    傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法,克服了這***問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制***系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

    Microwriter ML 3 是***款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

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產(chǎn)品特點(diǎn)   

Focus Lock自動對焦功能 

Focus lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測,并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀 

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向精度100 nm,方便快捷

 

標(biāo)記物自動識別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預(yù)檢查

軟件可以實(shí)時顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。

 

簡單的直寫軟件

MicroWriter ***個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行

 

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 

可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等
可以直接讀取TIFF, BMP 圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定
 
 
產(chǎn)品參數(shù)

Microwriter ML3 基本型 增強(qiáng)型 旗艦型
 樣品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
 直寫面積 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
 曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 適用于SU-8 
(365+405nm雙光源可選)
 直寫分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直寫速度 20mm2/min @ 1μm 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 對準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 x10 x3 and x10 自動切換 x3, x5, x10, x20 自動切換
 多層套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
 *小柵格精度 200nm 200nm 100nm
 樣品臺*小步長 100nm 100nm 50nm
 光學(xué)輪廓Z分辨率 無(可升***) 300nm 100nm
 樣品表面自動對焦
 灰度直寫(255***)
 自動晶片檢查工具 無(可升***)
 溫控樣品腔室 無 (可升***) 無 (可升***)
 虛擬模板校準(zhǔn)工具 無(可升***) 無(可升***)
 氣動減震光學(xué)平臺 無(可升***) 無(可升***)

應(yīng)用案例

直寫分辨率1μm

  
直寫分辨率0.6μm
 
 微電極制備
       光刻膠上的圖形                                 Au電極(SEM)                                   Au電極(SEM) 
       
       設(shè)計(jì)圖                                                 光刻膠上的圖形                                        放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
       
 
微結(jié)構(gòu)制備
   
 
    
 
微流通道制備
   
 
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產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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